以往的雙層輝光離子滲金屬技術(shù)均是采用雙直流電源，一個(gè)為源極，另一個(gè)為陰極(工件極)。在工業(yè)應(yīng)用的具體過程中出現(xiàn)源極和工件布置困難，兩個(gè)電源容易短路等技術(shù)問題。本文分別采用直流、脈沖，均為單輝電源進(jìn)行滲金屬，工件和源極為同一電極，進(jìn)行等離子滲Mo工藝 研究 ，并對(duì)滲層組織和性能進(jìn)行了比較。
實(shí)驗(yàn)材料選用Q235鋼，試樣尺寸為50mm×25mm×3mm，原始硬度172HV。源極采用板狀結(jié)構(gòu)的純鉬板，純度99.99%，源極板尺寸為70mm×45mm×5mm。
滲Mo試驗(yàn)時(shí)，對(duì)主要工藝參數(shù)如電源種類(直流、脈沖)、保溫時(shí)間、桶形輔助陰極、極間距等進(jìn)行 研究 ，對(duì)試樣進(jìn)行滲Mo處理。滲Mo其他工藝參數(shù)：極限真空度小于5Pa；工作氣壓29～32Pa；工作氣體為氬氣；工作電壓900～1100V；保溫溫度1100℃，極間距20～40mm。
結(jié)果表明：在其他工藝相同的情況下，脈沖電源較直流電源的滲層厚度約增加11.8%。隨著保溫時(shí)間延長(zhǎng),滲層不斷加厚。在脈沖電源下，采用單一輔助陰極桶的試樣滲層擴(kuò)散層最厚；加兩層輔助陰極桶會(huì)使擴(kuò)散層厚度降低。當(dāng)極間距減小時(shí)，易產(chǎn)生沉積層且沉積層越厚，造成擴(kuò)散層厚度降低；當(dāng)極間距增加時(shí)，沉積層減薄，并逐步消失，擴(kuò)散層厚度增大。采用脈沖電源所獲得的滲層Mo濃度高于直流電源的滲層Mo濃度，約增加10.2%。
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